リソグラフィーの工程では、わかっていると思いますが、ソフトベイクのプロファイルにわずか0.5度の誤差があっただけで、重要な寸法がナノメートル単位で変動してしまいます。つまり、線が急に目から遠ざかってしまうのです。私たちは、適切な熱管理を実現するために、調光可能な半導体ヒーターランプを開発しました。これにより、温度を厳密に制御し、再現性の高い結果を得ることができます。
内部で何が重要か このランプは、ウェハを迅速に加熱するために設計された短波長の赤外線放射体を利用しており、ベイク面全体で±0.1℃の均一性を保ちます。調光は直感的で線形的なので、フォトレジストの温度を設定しても、チャックの熱容量を超えることはありません。このデザインはクラス1～100のクリーンルームで使用でき、ホットゾーンでは粒子が発生しなく、石英/セラミック製の接続部も密封されているため、湿式洗浄や溶剤処理を行っても問題ありません。実際、ソフトベイクやハードベイクも数秒以内に目標温度に到達し、先進的なプロセスでも十分な余裕があります。
フォトレジスト処理において重要なのは、再現性だけです。調光可能なヒーターランプにより、ロットごとにベイク曲線を一定に保つことができ、ショットごとのCDのばらつきやエッチングのバイアスを減らすことができます。また、熱的な安定化が早いため、サイクルタイムが短縮され、歩留まりも低下しません。さらに、低プロファイルの設計により、既存のコーティング/ベイキング装置に容易に組み込むことができ、再作業も最小限に抑えられます。また、ランプは設定値に必要な電力しか消費しないため、エネルギー消費も少なくなります。長寿命の放射体により、PMウィンドウも拡大されます。パッケージングラインでは、このような制御により、エポキシの硬化が均一に行われ、気泡も少なくなります。なぜなら、温度プロファイルがもはや推測に頼るものではないからです。
実際に使用する前に、いくつか注意点があります。コネクタのインターフェースを合わせ、電源のリップル仕様を確認してください。ランプは電圧ノイズに敏感で、それが温度の乱れとして現れることがあります。まずは短時間だけ動作させて放射体の出力を安定させ、その後、チャックの反射板の位置を再確認して均一性を保ちます。基板の厚さや低k膜の特性に応じて、まずはメトロロジーワエハを使って校正を行ってください。