
Lựa chọn phương pháp phản xạ ánh sáng IR phù hợp để xử lý wafer
Khi xử lý wafer, yếu tố quan trọng nhất chính là cách kiểm soát nhiệt độ. Nhiều người nghĩ rằng giải pháp là tăng công suất của máy, nhưng đó là cách lãng phí. Chúng ta nên tập trung vào các bộ phận phản xạ ánh sáng. Đó chính là yếu tố quyết định việc liệu năng lượng hồng ngoại có thực sự tác động lên bề mặt wafer hay không, thay vì chỉ khiến căn phòng trở nên quá nóng.
Đặc biệt hiện nay, khi mọi người đều hướng tới việc xây dựng những nhà máy “xanh”, mục tiêu không phải là tăng công suất, mà là tận dụng tối đa từng photon ánh sáng.
Nơi mà nhiệt lượng được phân bố
Hãy tưởng tượng xem: một chiếc đèn dùng để xử lý wafer mà không có bộ phận phản xạ ánh sáng thì gần như lãng phí một nửa năng lượng của mình. Đó là sự lãng phí lớn.
Chúng ta sử dụng lớp phủ vàng hoặc nhôm để phản xạ ánh sáng hồng ngoại trở lại về phía wafer. Điều này giúp tăng mức độ nhiệt lượng mà không cần tăng công suất đèn. Tỷ lệ phản xạ càng cao thì lượng điện tiêu thụ càng ít. Rất đơn giản thôi.
Lựa chọn vật liệu phù hợp
Bạn không thể sử dụng bất kỳ loại kim loại nào. Việc lựa chọn vật liệu phụ thuộc vào mức độ nhiệt độ trong khu vực xử lý wafer. Nhôm có độ tinh khiết cao thường được sử dụng cho hầu hết các trường hợp. Nhưng khi nhiệt độ tăng quá cao, chúng ta sẽ chuyển sang sử dụng thạch anh được phủ vàng hoặc các vật liệu gốm chuyên dụng. Tại sao ư? Bởi vì việc gia nhiệt và làm lạnh liên tục sẽ làm biến dạng các vật liệu rẻ tiền.
Hình dạng của bộ phận phản xạ cũng rất quan trọng. Nếu độ cong của bộ phận này sai lệch vài milimét, bạn sẽ gặp phải tình trạng nhiệt độ không đồng đều. Điều này sẽ khiến wafer bị biến dạng hoặc quá trình xử lý không diễn ra đồng đều.
Cân bằng giữa công suất và diện tích
Để giảm lượng khí thải trong nhà máy, bạn cần loại bỏ những nguồn năng lượng không cần thiết. Khi sử dụng hệ thống phản xạ ánh sáng hiệu quả, bạn có thể sử dụng đèn có công suất thấp hơn mà vẫn đạt được nhiệt độ mong muốn. Ngoài ra, các thiết bị làm mát cũng không cần phải hoạt động quá nhiều. Đó là một giải pháp tốt cho cả hai bên.
Nhưng cũng có một nhược điểm: các bộ phận phản xạ ánh sáng này tập trung nhiệt lượng một cách mạnh mẽ. Nếu tốc độ vận chuyển wafer thay đổi, bạn có thể vô tình làm cho các mép wafer bị quá nhiệt. Bạn cần đảm bảo rằng tốc độ vận chuyển và mức độ nhiệt lượng luôn được duy trì ở mức cân bằng, nếu không bạn sẽ phải đối mặt với vấn đề về chất lượng wafer.
Chúng tôi thiết kế các bộ phận phản xạ ánh sáng này sao cho có thể thay thế dễ dàng. Nhờ đó, bạn vẫn có thể đạt được mục tiêu giảm khí thải mà không cần phải thay thế toàn bộ thiết bị của mình.