Sưởi ấm bằng tia hồng ngoại so với sưởi ấm bằng không khí nóng: Tại sao việc chọn phương pháp nào lại quan trọng đối với các tấm wafer?
Nếu bạn đang cân nhắc thay thế phương pháp sưởi ấm bằng không khí nóng bằng phương pháp sưởi ấm bằng tia hồng ngoại trong quy trình xử lý wafer, thì bạn không chỉ đơn giản là chọn một thiết bị sưởi mới mà thôi. Bạn đang loại bỏ hiện tượng “chậm trễ về mặt nhiệt độ” – hiện tượng khiến mọi thứ diễn ra chậm chạp.
Quy trình sưởi ấm bằng không khí nóng Hãy tưởng tượng cách hoạt động của phương pháp sưởi ấm bằng không khí nóng: bạn phải làm nóng không khí trước, sau đó chờ cho các bức tường của buồng xử lý nóng lên, và cuối cùng nhiệt mới có thể lan đến các tấm wafer. Đây là quy trình diễn ra rất chậm.
Phương pháp sưởi ấm bằng tia hồng ngoại Ngược lại, phương pháp sưởi ấm bằng tia hồng ngoại sử dụng bức xạ điện từ; những photon này trực tiếp tác động lên bề mặt wafer. Quá trình này diễn ra rất nhanh – chỉ trong vài giây thôi. Điều này rất quan trọng đối với những nhà máy sản xuất với khối lượng công việc lớn; việc chậm trễ vài phút cũng có thể gây ảnh hưởng nghiêm trọng đến hiệu suất sản xuất.
Vấn đề liên quan đến khoảng cách giữa bóng đèn và wafer Đây là điểm khó khăn nhất: khoảng cách giữa bóng đèn và wafer. Nếu bóng đèn quá gần wafer, bạn sẽ gặp phải tình trạng nhiệt độ cao ở một số vị trí, thậm chí có thể làm hỏng wafer. Ngược lại, nếu bóng đèn quá xa, bạn sẽ mất đi hiệu quả sưởi ấm mà tia hồng ngoại mang lại.
Chúng ta thường tính toán điều này bằng cách xem xét công suất cần thiết cho mỗi cm vuông. Nhưng điều tuyệt vời là phương pháp sưởi ấm bằng tia hồng ngoại cho phép chúng ta kiểm soát mức nhiệt một cách chính xác. Chúng ta có thể điều chỉnh chiều cao của bóng đèn hoặc sử dụng các bộ phản xạ để đảm bảo nhiệt được phân bố đều trên toàn bộ bề mặt wafer.
Nhược điểm Tuy nhiên, phương pháp sưởi ấm bằng tia hồng ngoại cũng có những nhược điểm. Bạn không thể chỉ cắm máy vào và rời đi để uống cà phê được. Vì nhiệt độ được tạo ra rất cao, bạn cần một hệ thống kiểm soát nhiệt chính xác và các cảm biến có khả năng phản ứng nhanh chóng. Nếu không, nhiệt độ có thể vượt quá mức mong muốn. Nếu hệ thống làm mát không thể xử lý được sự thay đổi nhiệt độ đột ngột khi nguồn điện bị ngắt, nhiệt độ có thể dao động mạnh, gây hư hại toàn bộ lô sản phẩm.
Dù vậy, lợi ích từ phương pháp này vẫn rất lớn. Bạn có thể sử dụng diện tích nhỏ hơn cho bộ phận sưởi ấm, và thời gian xử lý cũng nhanh hơn nhiều. Đối với những ai muốn tăng tốc độ quy trình xử lý wafer, đây quả là giải pháp tuyệt vời.