Memastikan Suhu yang Tepat Semasa Proses Pengeringan Wafer
Inilah cabaran sebenar dalam proses pembuatan semikonduktor: kita perlu menggunakan haba untuk mengeringkan wafer, dan ia perlu dilakukan dengan cepat. Namun, kita tidak boleh sekadar meningkatkan suhu secara rawak, kerana jika suhu di sekitar wafer terlalu tinggi, ia akan menyebabkan masalah.
Kita menangani masalah ini dengan menggunakan lampu pengeringan berbasis inframerah yang telah disahkan kualitinya, bersama-sama dengan reflektor yang dilapisi emas. Tujuannya adalah untuk mengurangkan pembaziran tenaga.
Mengapa emas?
Kebanyakan orang menggunakan reflektor aluminium, tetapi ia tidak efektif. Reflektor tersebut menyerap terlalu banyak tenaga dan menyebarkan cahaya ke mana-mana. Emas pula berbeza; ia sangat efektif dalam memantulkan cahaya inframerah. Dengan menggunakan lapisan emas yang tipis, kita dapat mengarahkan foton agar tidak mengenai struktur mesin, sebaliknya kembali ke wafer. Ini membantu mengurangkan suhu yang diperlukan untuk proses pengeringan, serta mempercepatkan proses tersebut. Ia juga lebih efisien dan bersih.
Perhatikan kepadatan haba
Namun, ada satu masalah: apabila emas digunakan untuk memfokuskan tenaga tersebut, kepadatan haba pada permukaan wafer akan meningkat drastik. Ini akan menyebabkan wafer menjadi sangat panas. Inilah saat di mana kita perlu berhati-hati dalam mengawal suhu. Jika sistem penyejukan tidak mencukupi, wafer boleh rosak atau lampu boleh rosak. Kita perlu menyesuaikan kuasa dan bentuk reflektor agar suhu wafer tetap stabil.
Kelebihan penggunaan emas
Lampu-lampu ini direka khusus untuk digunakan di bilik bersih, jadi reka bentuknya disederhanakan agar sesuai dengan ruang yang terhad. Satu perkara yang perlu diingat ialah emas mudah tercemar. Jika debu melekat pada reflektor tersebut, kecekapan lampu akan menurun. Oleh itu, kita perlu memastikan reflektor sentiasa bersih.
Selain itu, pastikan bekalan kuasa mampu menangani arus yang tinggi semasa lampu dihidupkan. Kelebihan sistem berlapis emas ialah kita boleh mengurangkan jumlah kuasa yang digunakan, namun masih dapat memastikan suhu wafer tetap stabil.