Di bahagian proses litografi ini, anda tahu bagaimana keadaannya. Sebarang perubahan sebanyak setengah darjah dalam profil pemanasan boleh menyebabkan dimensi kritikal komponen berubah secara mendadak, sehingga mencapai tahap nanometer. Garisan yang digunakan untuk melukis corak pada wafer akan bergerak menjauhi posisi yang diinginkan. Kami telah mencipta lampu pemanas semikonduktor yang boleh dikawal intensitinya, agar suhu dapat dikawal dengan tepat – stabil, boleh diulang, dan dalam kawalan yang baik.
Apa yang penting dari segi teknikal
Lampu ini menggunakan pancaran inframerah gelombang pendek untuk memanaskan wafer dengan cepat, sambil memastikan suhu permukaan wafer kekal stabil pada tahap ±0.1°C. Proses penyesuaian intensiti cahaya dilakukan secara langsung dan linear, jadi suhu fotoresist dapat dikawal tanpa melebihi had suhu yang ditetapkan. Reka bentuk lampu ini sesuai untuk digunakan di bilik bersih kelas 1–100, dengan tiada penciptaan zarah di kawasan panas, serta antara muka kuarsa/seramik yang tahan terhadap pembersihan menggunakan cecair. Dalam praktiknya, proses pemanasan berjalan dengan cepat, dan masa yang diperlukan untuk proses tersebut tetap mencukupi untuk penggunaan node canggih.
Yang penting dalam proses pemprosesan fotoresist ialah tingkat ulangan yang konsisten. Lampu pemanas yang boleh dikawal intensitinya membantu memastikan profil pemanasan tetap stabil dari satu kumpulan produk ke kumpulan produk yang lain, sekaligus mengurangkan variasi suhu antara setiap kali proses pemprosesan dilakukan. Penyesuaian suhu juga berlaku dengan lebih cepat, sekali gus mengurangkan masa yang diperlukan untuk proses tersebut tanpa menjejaskan hasilnya. Selain itu, penggunaan tenaga juga berkurangan kerana lampu hanya menggunakan tenaga yang diperlukan sahaja. Jangka hayat pancaran lampu yang panjang pula membolehkan proses pemprosesan berjalan lebih lama tanpa perlu membaiki peralatan. Di barisan pembungkusan, kawalan yang baik ini memastikan proses pengerasan epoksi berjalan dengan lancar dan mengurangkan kebarangkalian berlakunya kecacatan – kerana profil suhu kini dapat dikawal dengan tepat.
Beberapa perkara praktikal yang perlu dipertimbangkan sebelum memulakan proses pemprosesan: pastikan antaramuka penyambung sesuai, dan semak spesifikasi bekalan kuasa. Lampu ini sangat sensitif terhadap gangguan voltan yang boleh menyebabkan perubahan suhu. Biarkan lampu beroperasi sebentar untuk memastikan output pancarannya stabil, kemudian semak semula penyetelan cermin reflektor pada lampu tersebut agar keseragaman suhu dapat dipertahankan. Rancanglah parameter suhu berdasarkan lapisan substrat yang digunakan – wafer tebal dan filem berketebalan rendah akan memberikan respons yang berbeza, jadi gunakan wafer khusus untuk tujuan kalibrasi terlebih dahulu.