Di bilik pengeluaran, perubahan suhu semasa proses pembakaran sebanyak setengah darjah sahaja sudah cukup untuk mengubah dimensi yang penting tersebut sebanyak beberapa nanometer – dan ini akan membuang masa berjam-jam yang digunakan dalam proses litografi. Lampu inframerah yang digunakan untuk memproses grafena dapat menyelesaikan masalah ini. Lampu-lampu ini menggantikan pemanas konvensional dengan sistem pemanasan yang cepat dan stabil, sehingga suhu dapat dikawal dengan baik dalam lingkungan yang ditetapkan.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami mencipta pemancar NIR berasaskan grafena agar ia dapat berfungsi dengan cepat dan konsisten. Dengan cara ini, keseragaman suhu pada permukaan wafer dapat dicapai pada tahap ±0.1°C. Sistem ini boleh beroperasi di bilik bersih kelas 1–100 tanpa menghasilkan zarah atau gas berbahaya, sekaligus mengurangkan jumlah kecacatan pada wafer. Keluaran tenaga tetap stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan suhu kurang dari 5%. Ini bermakna setiap wafer akan menerima intensiti tenaga yang sama, dari satu kumpulan ke kumpulan yang lain. Selepas pintu dibuka atau ditutup, lampu-lampu ini akan kembali stabil dalam masa beberapa saat sahaja, sehingga proses pembakaran dapat berjalan seperti biasa.
Mengapa ini sesuai untuk proses pengeluaran
Dalam proses pengeluaran photoresist, langkah pembakaran memainkan peranan penting dalam menentukan tekanan pada filem, sensitivitinya, serta bentuk tepi filem tersebut. Dengan menggunakan lampu-lampu ini, kawalan yang lebih tepat dapat dilakukan terhadap proses pembakaran, sekaligus mengurangkan keperluan untuk melakukan kerja-kerja pembetulan dan meningkatkan keseragaman CD pada setiap wafer. Kelajuan proses pembakaran yang tinggi membolehkan masa yang diperlukan untuk menyelesaikan proses tersebut dikurangkan, tanpa mengorbankan ketepatan suhu. Kecekapan sistem ini juga membantu mengurangkan kos operasi bagi setiap wafer. Ini merupakan pengganti yang setara dengan standard antarabangsa, dan boleh digunakan secara langsung dalam proses litografi sedia ada. Anda tidak perlu mengubah suai keseluruhan proses pengeluaran – anda masih boleh mengekalkan kualiti proses pengeluaran sedia ada sambil meningkatkan hasil pengeluaran.
Perkara yang perlu diambil kira
Keluaran tenaga lampu ini sangat sensitif terhadap kebersihan tingkap kuarsa serta ketepatan penempatan lampu tersebut. Pastikan anda mematuhi spesifikasi tork yang ditetapkan dan prosedur pembersihan bilik bersih yang betul, agar suhu dapat dikawal pada tahap ±0.1°C. Pemancar ini memerlukan bekalan kuasa yang stabil dan alat pengukur suhu yang tepat untuk kawalan automatik. Setelah disusun dengan betul, sistem ini boleh beroperasi 24/7 dengan jadual penyelenggaraan yang tetap, sehingga masa henti yang tidak dijangka dapat diminimumkan.