Tại sao chúng ta lại từ bỏ những lò nướng truyền thống để chuyển sang sử dụng phương pháp khử ẩm bằng tia hồng ngoại?
Hãy thành thực mà nói: những lò nướng truyền thống kia thực sự đã lỗi thời trong ngành semiconductors. Chúng có kích thước lớn, hoạt động chậm, và việc vận hành chúng cũng rất phiền phức. Đó là lý do tại sao nhiều nhà máy sản xuất semiconductors đang chuyển sang sử dụng phương pháp khử ẩm bằng tia hồng ngoại. Điều này không chỉ giúp tuân thủ các tiêu chuẩn “thân thiện với môi trường” hay loại bỏ chì khỏi quy trình sản xuất, mà còn giúp quy trình sản xuất diễn ra hiệu quả hơn.
Với lò nướng truyền thống, bạn phải làm nóng toàn bộ không khí trong phòng chỉ để truyền năng lượng vào tấm wafer nhỏ bé. Điều này rất kém hiệu quả. Còn với phương pháp tia hồng ngoại thì khác. Năng lượng được truyền trực tiếp từ nguồn phát sang bề mặt wafer, không cần qua bất kỳ trung gian nào. Không cần chờ đợi không khí được làm nóng, và cũng không có khí thải hay chất gây ô nhiễm nào xâm nhập vào môi trường kiểm soát. Đó là một quy trình sạch sẽ, yên tĩnh và hiệu quả.
Nhưng đừng nghĩ rằng đây là phép màu. Vẫn còn một số yếu tố cần được chú ý. Phương pháp tia hồng ngoại rất nhanh – bạn có thể đạt được nhiệt độ cần thiết trong vài giây. Nhưng tốc độ này cũng mang tính hai mặt. Nếu tấm wafer không được đặt đúng vị trí hoặc cường độ tia hồng ngoại quá cao, bạn sẽ gặp phải tình trạng “điểm nóng”. Chỉ cần một sai sót nhỏ thôi cũng có thể làm hỏng tấm wafer. Bạn cần phải chọn lựa kỹ lưỡng các bộ điều khiển PID và cảm biến khoảng cách, nếu không bạn sẽ làm hỏng vật liệu sản xuất.
Điều tuyệt vời nhất là kích thước của thiết bị này khá nhỏ. Khi loại bỏ được thời gian chuẩn bị dài, lượng khí thải carbon cũng giảm theo. Không có khí nhà kính được thải ra, và cũng không tốn nhiều điện năng. Thiết bị này rất thích hợp để sử dụng trong các nhà máy sản xuất semiconductors, và cũng dễ dàng vượt qua các kiểm tra về môi trường. Đó chính là cách làm việc đơn giản hơn.