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		<title>Zoneado on Advanced Infrared Heating Systems</title>
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				<title>Aquecimento zonal para fabricação avançada de wafers</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-system.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Aquecimento zonal para fabricação avançada de wafers&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;No piso de fabricação, uma variação de meio grau na temperatura de bake é suficiente para descartar um lote inteiro. Você observa o perfil do fotoresiste mudar, vê o desvio de dimensão crítica aparecer na metrologia e o impacto na produtividade surge diretamente no seu relatório de turno.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Forno tradicionais e placas aquecidas de zona única forçam a escolha entre orç&lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;amento&lt;/a&gt; térmico e rendimento. Desenvolvemos aquecimento zonal para eliminar essa troca.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;O que importa, tecnicamente&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Cada zona usa lâmpadas halógenas controladas de forma independente com resposta em NIR de onda curta, permitindo que a pastilha atinja o ponto de ajuste rapidamente sem aquecer a câmara. Ao longo de toda a janela do processo, a uniformidade em nível de wafer mantém-se dentro de ±0,1°C, requisito essencial para soft bake e hard bake repetitivos em pilhas de litografia.&lt;/p&gt;</description>
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