Kwarts on Advanced Infrared Heating Systems

Kwartsglasbeschermer voor fablamp

Sat, 11 Jul 2026 05:16:53 +0800

Waarom we kwartsbescherming gebruiken voor fabriekslampen
Als je werkt in een halfgeleiderfabriek, weet je dat IR-gerelateerde verzegeling de beste manier is om dingen te verzegelen. Het is schoon, milieuvriendelijk en het werkt door energie rechtstreeks naar het substraat te sturen. Maar er is één probleem: je kunt de lampen niet zomaar in een schone ruimte laten staan. Hier komt de kwartsbescherming om de hoek kijken.

Het gaat om de hitte.
Deze bescherming is niet alleen ter versiering. We gebruiken hoogzuivere gefuseerde kwarts, omdat dit materiaal de kortegolfige infrarode straling gewoon doorlaat, zonder dat deze wordt opgenomen. Als je gewoon glas zou gebruiken, zou dit alle hitte opnemen, waardoor het materiaal zou breken.

Hoge zuiverheid kwartsverwarmings element

Wed, 08 Jul 2026 06:13:40 +0800

Inleiding

Laten we meteen ter zake komen. Als je een chipfabriek runt, weet je dat thermische stabiliteit geen ‘nice-to-have’ is. Het is essentieel voor het hele proces.
Wanneer je proces vereist dat de temperatuur binnen 0,1°C blijft, heb je een heaters nodig die precies dat doen – elke keer opnieuw. Geen afwijkingen, geen problemen.
Dat is precies waarom we onze kwarts-halogeenlampen hebben ontworpen. Ze zijn eenvoudig in gebruik, hebben zich bewezen in de praktijk en zijn speciaal ontworpen om je een stabiele en reproduceerbare warmtebron te bieden voor je halfgeleiderprocessen.

Middengolfkwartskookbuis

Fri, 19 Jun 2026 02:27:55 +0800

Op de 300mm-lijn heeft een afwijking van 0,5°C tijdens het bakken van de photoresist geen grote gevolgen. Het leidt eerder tot afwijkingen in de dikte van de lijn die worden gemeten met behulp van metrische apparaten. Vervolgens leidt dit tot afvalwafer. Het thermische budget is al beperkt, dus de verwarmer kan niet zomaar fungeren als een eenvoudige warmtebron – hij moet zich gedragen als een meetinstrument.

Wat technisch belangrijk is: Middengolfkwarts zorgt voor snelle, stabiele stralingswarmte met sterke absorptie precies in het gebied waar de photoresist wordt gebakken. Hierdoor verbetert de respons-tijd en neemt de thermische vertraging af. Onze buis zorgt voor een uniformiteit van ±0,1°C over de hele hete zone, gemeten op het oppervlak van de wafer – niet op het substraat. De compatibiliteit met schone ruimtes is al van tevoren meegenomen in het ontwerp: materialen die voldoen aan de normen van klasse 1–100, minimale uitstoot van gassen, en oppervlakken die geen deeltjes produceren. Er zijn ook mogelijkheden om verschillende bakprocedures uit te voeren, zonder dat er hete plekken of oneffenheden optreden.