http://ir-heater-system.com/ms/tags/suhu/ Recent content in Suhu on Advanced Infrared Heating Systems Hugo ms Tue, 28 Jul 2026 02:43:23 +0800 http://ir-heater-system.com/ms/posts/ensuring-electrical-integrity-in-wafer-tool-heating-elements-through-100-hipot-testing/ Tue, 28 Jul 2026 02:43:23 +0800 http://ir-heater-system.com/ms/posts/ensuring-electrical-integrity-in-wafer-tool-heating-elements-through-100-hipot-testing/ <p><img src="http://ir-heater-system.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="Penderia suhu untuk alat pemprosesan wafer"></p> <p><strong>Mengapa kami menguji setiap lampu secara individu (dan mengapa anda perlu peduli)</strong><br> Di kilang pengeluaran wafer, sedikit sahaja kebocoran arus <a href="https://goldisgood.com">elektrik</a> sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan kumpulan silikon yang dihasilkan, atau menyebabkan sistem tersebut rosak sepenuhnya. Itu merupakan situasi yang sangat buruk dan tiada siapa yang ingin mengalaminya.</p> <p>Itulah sebabnya kami tidak menggunakan kaedah “penyampelan secara rawak”. Kami tidak hanya menguji satu daripada sepuluh unit sahaja, dan berharap semuanya akan berfungsi dengan baik. Kadar kegagalan sebanyak 1% mungkin kelihatan kecil dalam jadual angka, tetapi apabila berhadapan dengan pemanas industri bertekanan tinggi, kadar 1% itu sudah terlalu tinggi.</p> http://ir-heater-system.com/ms/posts/thermal-analyzer-heating-lamp/ Tue, 30 Jun 2026 01:47:43 +0800 http://ir-heater-system.com/ms/posts/thermal-analyzer-heating-lamp/ <p><img src="http://ir-heater-system.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png" alt="Lampu pemanas untuk analisator termal"></p> <p>Di bilik litografi, perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pembakaran lembut atau keras bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan begitu sahaja. Perubahan ini akan menyebabkan variasi ketebalan garisan, serta masalah lain seperti keretakan pada lapisan fotoresist. Kesan haba yang dihasilkan sudah pun sangat tinggi, jadi oven atau papan panas tersebut tidak mampu menanggung perubahan suhu yang boleh menyebabkan fotoresist keluar daripada julat suhu yang sesuai untuk proses pembakaran.</p> <p><strong>Apa yang penting dari segi teknikal:</strong><br> Lampu penganalisis haba ini menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek dalam sarung kuarza, agar ia dapat berfungsi dengan baik bersama-sama dengan lapisan fotoresist yang digunakan. Keseragaman suhu pada permukaan wafer kekal dalam lingkungan ±0.1°C, dan ketepatan tetapan suhu memastikan profil haba tetap konsisten mengikut spesifikasi yang ditetapkan.</p>