<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Perhimpunan on Advanced Infrared Heating Systems</title>
		<link>http://ir-heater-system.com/ms/tags/perhimpunan/</link>
		<description>Recent content in Perhimpunan on Advanced Infrared Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 03:29:25 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heater-system.com/ms/tags/perhimpunan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas bengkel pemasangan fabrik</title>
				<link>http://ir-heater-system.com/ms/posts/fab-assembly-workshop-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 03:29:25 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heater-system.com/ms/posts/fab-assembly-workshop-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-system.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Pemanas bengkel pemasangan fabrik&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pengeluaran, perubahan suhu semasa proses pemprosesan photoresist tidak akan menyebabkan amaran yang serius. Ia hanya akan mengurangkan kualiti produk, satu keping wafer pada satu masa. Dalam unit litografi dan lini pembungkusan pula, keseragaman suhu bukanlah sesuatu yang penting. Ia merupakan syarat asas untuk proses pengeluaran berjalan dengan lancar.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dalam proses ini&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami menggunakan pemanas berbentuk elemen inframerah gelombang pendek (SWIR) bersama tingkap kuarza untuk memastikan suhu dapat dikawal dengan tepat. Ini membolehkan suhu naik dengan cepat dan mengurangkan inersia termal. Di kawasan pemprosesan, keseragaman suhu pada tahap wafer dikekalkan pada tahap ±0.1°C, dan nilai suhu tetap stabil walaupun proses berlangsung secara berterusan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
