Lampada riscaldante a semiconduttori regolabile in intensità

Thu, 25 Jun 2026 01:36:43 +0800

Sul banco di litografia, si sa com’è: anche un piccolo errore nel profilo di riscaldamento può far sì che le dimensioni critiche dei componenti cambino di pochi nanometri. La linea di separazione tra i vari elementi del chip si allontana così rapidamente. Abbiamo creato una lampada a riscaldamento semiconduttore regolabile, per mantenere il bilancio termico sotto controllo: preciso, ripetibile e stabile.

Quello che è importante davvero
La lampada utilizza un emettore a infrarossi a lunghezza d’onda corta, in grado di riscaldare rapidamente i wafer. In questo modo si riesce a mantenere una uniformità della temperatura pari a ±0,1°C su tutta la superficie del wafer. La regolazione della temperatura avviene in modo diretto e lineare, permettendo di impostare la temperatura desiderata senza superare i limiti stabiliti dal sistema di riscaldamento. Il design della lampada è adatto per ambienti sterili di classe 1–100: non vi è alcuna generazione di particelle nella zona calda, e l’interfaccia in quarzo/ceramica resiste perfettamente a pulizie con sostanze chimiche. In pratica, i tempi di riscaldamento sono molto brevi, e il processo rimane efficiente anche per chip di alta complessità.

Regolabile in Intensità on Advanced Infrared Heating Systems

Lampada riscaldante a semiconduttori regolabile in intensità