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		<title>Analizzatore on Advanced Infrared Heating Systems</title>
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		<description>Recent content in Analizzatore on Advanced Infrared Heating Systems</description>
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				<title>Lampada di riscaldamento dell analizzatore termico</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-system.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Lampada di riscaldamento dell analizzatore termico&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nel processo di litografia, una variazione di temperatura di 1°C durante la fase di essiccazione non rimane soltanto un concetto teorico: si manifesta come variazioni nella larghezza dei bordi dei circuiti stampati, problemi legati alla formazione di “schiume” sulla superficie del chip, e una riduzione della qualità del prodotto finito. I limiti termici sono già molto stretti; quindi il forno o la piastra di riscaldamento non possono permettersi variazioni di temperatura che possano portare il fotorestista al di fuori dell’intervallo ottimale per la sua funzione.&lt;/p&gt;</description>
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