Lampu pemanas pada analisator termal

Tue, 30 Jun 2026 01:47:43 +0800

Di proses litografis, penyimpangan suhu sebesar 1°C selama proses pemanasan lunak atau keras bukanlah hal yang teoretis belaka. Penyimpangan ini berdampak pada variasi lebar garis gambar, munculnya noda pada permukaan wafer, serta penurunan kualitas hasil produksi. Kondisi termal sudah sangat ketat, sehingga oven atau alat pemanas tidak boleh mengalami fluktuasi suhu yang dapat membuat lapisan fotoresist keluar dari rentang suhu yang optimal untuk proses pengolahan.

Yang penting secara teknis:
Lampu pemanas yang digunakan dirancang menggunakan emitor inframerah gelombang pendek (SWIR) yang terbungkus dalam struktur kuarsa. Emitor ini disetel sedemikian rupa agar sesuai dengan profil absorpsi lapisan fotoresist yang umum digunakan. Di seluruh permukaan wafer, tingkat keseragaman suhu tetap berada dalam kisaran ±0,1°C, dan kemampuan pemeliharaan nilai suhu yang konstan memastikan bahwa proses pemanasan berjalan sesuai rencana.

Analyzer on Advanced Infrared Heating Systems

Lampu pemanas pada analisator termal