<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>قابل کاهش روشنایی on Advanced Infrared Heating Systems</title>
		<link>http://ir-heater-system.com/fa/tags/%D9%82%D8%A7%D8%A8%D9%84-%DA%A9%D8%A7%D9%87%D8%B4-%D8%B1%D9%88%D8%B4%D9%86%D8%A7%DB%8C%DB%8C/</link>
		<description>Recent content in قابل کاهش روشنایی on Advanced Infrared Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 01:36:43 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heater-system.com/fa/tags/%D9%82%D8%A7%D8%A8%D9%84-%DA%A9%D8%A7%D9%87%D8%B4-%D8%B1%D9%88%D8%B4%D9%86%D8%A7%DB%8C%DB%8C/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>لامپ گرمایشی نیمههادی قابل کاهش روشنایی</title>
				<link>http://ir-heater-system.com/fa/posts/dimmable-semiconductor-heater-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 01:36:43 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heater-system.com/fa/posts/dimmable-semiconductor-heater-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-system.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;لامپ گرمایشی نیمههادی قابل کاهش روشنایی&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در فرآیند لیتوگرافی، می‌دانید که چه اتفاقاتی می‌افتد: حتی کمترین تغییر در دمای حرارتی می‌تواند باعث شود که ابعاد مورد نظر به سطح نانومتر برسد. خطوط روی ویفر نیز به تدریج از جای خود دور می‌شوند. ما چراغ گرمایشی نیمه‌هادی قابل تنظیم را طراحی کرده‌ایم تا دمای حرارتی در سطح مناسبی باقی بماند؛ یعنی دمایی که قابل کنترل باشد و تکرارپذیر باشد.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;چه چیزهایی اهمیت دارد؟&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;این چراغ از یک فرستنده مادون‌قرمز کوتاه‌امواج استفاده می‌کند تا ویفر را به سرعت گرم کند؛ همچنین، این چراغ باعث می‌شود که دمای سطح ویفر در محدوده ±۰.۱ درجه سانتی‌گراد باقی بماند. تنظیم دما به صورت مستقیم و خطی انجام می‌شود؛ بنابراین می‌توانید دمای فوتورزیست را تنظیم کنید، بدون اینکه دمای ویفر از حد مجاز فراتر رود. این طراحی برای استفاده در اتاق‌های پاک با سطح کنترل ۱ تا ۱۰۰ مناسب است؛ همچنین، در منطقه گرم، هیچ ذره‌ای تولید نمی‌شود، و رابط کوارتز/سرامیک نیز در برابر شستشوی مایعات مقاوم است. در عمل، فرآیندهای گرم کردن ویفر در عرض چند ثانیه انجام می‌شود، و فاصله زمانی لازم برای انجام این فرآیند به اندازه کافی زیاد است تا بتوان از آن برای فرآیندهای پیشرفته نیز استفاده کرد.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
