Graphenbearbeitung mit Infrarotlampe

Mon, 22 Jun 2026 19:18:15 +0800

Auf dem Produktionsschalter kann bereits eine Abweichung der Backtemperatur von einem halben Grad dazu führen, dass kritische Abmessungen um Nanometer verändert werden – was wiederum Stunden an Lithografiearbeit zunichte macht. Die Infrarotlampen für den Umgang mit Graphen adressieren dieses Problem direkt: Sie ersetzen die herkömmlichen Heizungen durch schnelle, stabile Strahlungswärme, wodurch die thermischen Bedingungen innerhalb des zulässigen Bereichs bleiben.

Was technisch wichtig ist:
Wir haben den grafenbasierten NIR-Emitter wegen seiner Geschwindigkeit und Wiederholgenauigkeit entwickelt. Er reagiert schnell und vorhersehbar. So wird eine Homogenität auf Waferebene von ±0,1°C gewährleistet. Das System funktioniert in Reinräumen der Klasse 1–100, ohne Partikel oder Gase freizusetzen – dadurch werden Fehler minimiert. Die Leistung bleibt über 5.000 Stunden hinweg stabil, wobei die Abweichung unter 5% liegt. Somit erhält jede Wafer die gleiche Energiedichte – Batch für Batch. Nach dem Öffnen bzw. Schließen der Tür stabilisiert sich das System innerhalb weniger Sekunden wieder, sodass die Profile für die weiche und harte Trocknung erhalten bleiben.

Verarbeitung on Advanced Infrared Heating Systems

Graphenbearbeitung mit Infrarotlampe