
Op de lithografieafdeling heeft een verschil van 1°C tijdens het zacht of hard bakken geen theoretische betekenis meer. Dit leidt tot variaties in de breedte van de lijnen, ongewenste afzettingen op het oppervlak en een verminderde opbrengst. De thermische omstandigheden zijn al nauwkeurig geregeld; de oven of het hete oppervlak kan geen schommelingen veroorzaken die de fotorester buiten het juiste temperatuurbereik brengen.
Wat technisch belangrijk is: We hebben de verwarmingslamp voor de thermische analist ontworpen met behulp van korte-golf infrarode halogeenemitters, geplaatst in een kwartsomhulsel. Deze emitters zijn afgestemd op het absorptieprofiel van gangbare fotoresterlagen. Op het oppervlak waar het bakken plaatsvindt, blijft de gelijkmatigheid binnen ±0,1°C. De herhaalbaarheid van de instellingen zorgt ervoor dat het thermische profiel altijd overeenkomt met de vereisten.
De lamp kan worden gebruikt in schone ruimtes van klasse 1–100, zonder dat er een toename van de hoeveelheid deeltjes optreedt. Er wordt gebruik gemaakt van een constructie met minimale uitstoot van gassen en een behuizing die voldoet aan de SEMI S2-normen. De output blijft stabiel gedurende meer dan 5.000 uur, met minder dan 5% intensiteitsverschillen. Hierdoor krijgt elke batch dezelfde thermische behandeling.
Waarom het werkt in de praktijk: In werkelijkheid zorgt deze lamp ervoor dat de bakprocedure tussen het aanbrengen van de fotorester en het belichten consistent verloopt. Hierdoor wordt de oplosmiddelenremoval bij het zachte bakken effectiever en wordt de hechting van de fotorester bij het harde bakken verbeterd. Er zijn geen overtollige schommelingen meer, waardoor de onderliggende lagen niet beschadigd raken.
De hogere gelijkmatigheid zorgt voor minder oneffenheden aan de randen en over het hele oppervlak van de chip. Dit verkort de tijd die nodig is voor de kalibratie en reduceert de hoeveelheid afval. De snelle thermische reactie van de lamp zorgt voor minder wachttijd tussen batches. Bovendien verlaagt de efficiënte SWIR-technologie het energieverbruik per chip vergeleken met conventionele verwarming. De betrouwbaardheid van deze lamp zorgt voor minder storingen en problemen tijdens het proces.
Details die belangrijk zijn om de lamp goed te laten functioneren: De lamp is gevoelig voor de optische alignering en de schoonheid van de reflectoren. Daarom moet de installatie volgens de specifieke toleranties en procedures in een schone ruimte worden uitgevoerd. Na het vervangen van de lamp is het nodig om deze even op te warmen en opnieuw te kalibreren, zodat de gelijkmatigheid van ±0,1°C behouden blijft.
De lamp kan worden geïntegreerd in standaard thermische analysetochten. Echter, voordat je modules vervangt, moet je controleren wat voor type aansluiting er wordt gebruikt, wat de spanning is en wat de thermische beperkingen van je apparaat zijn.