Di fasilitas produksi, perubahan suhu pemanggangan sebesar setengah derajat saja sudah cukup untuk mengubah dimensi kritis suatu bahan hingga beberapa nanometer—a hal yang dapat merusak hasil proses litografi yang membutuhkan waktu berjam-jam. Lampu inframerah yang digunakan dalam proses pengolahan grafena mampu mengatasi masalah ini. Lampu-lampu tersebut menggantikan pemanas konvensional dengan sumber panas yang cepat dan stabil, sehingga suhu di area fotoresist tetap terkendali.
Yang penting secara teknis: Kami menciptakan emitor IR berbasis grafena demi kecepatan dan tingkat reproducibilitas yang tinggi. Dengan demikian, emitor ini dapat merespons secara cepat dan konsisten. Tingkat keseragaman suhu di permukaan wafer mencapai ±0,1°C. Sistem ini dapat beroperasi di ruang bersih kelas 1–100 tanpa menghasilkan partikel atau gas berbahaya, sehingga jumlah cacat pada wafer pun berkurang. Daya keluaran lampu tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, dengan penyimpangan suhu kurang dari 5%. Dengan demikian, setiap wafer akan mendapatkan densitas energi yang sama, dari satu batch ke batch berikutnya. Setelah pintu dibuka/menutup, lampu akan kembali stabil dalam hitungan detik, sehingga profil pemanggangan tetap terjaga.
Mengapa ini cocok untuk proses produksi: Dalam proses fotoresist, langkah pemanggangan sangat penting untuk menentukan tingkat stres pada lapisan fotoresist, sensitivitasnya, serta bentuk tepinya. Dengan menggunakan lampu ini, kita dapat mengontrol proses pemanggangan dengan lebih baik, sehingga mengurangi kebutuhan untuk melakukan proses pengulangan dan meningkatkan keseragaman dimensi wafer. Waktu proses pun menjadi lebih singkat tanpa mengorbankan akurasi kontrol suhu. Efisiensi sistem ini juga menurunkan biaya operasional per wafer. Ini merupakan pengganti yang sesuai dengan standar internasional, sehingga dapat langsung digunakan dalam proses litografi yang sudah ada. Anda tidak perlu melakukan penyesuaian apa-apa pada jalur produksi Anda—proses produksi tetap berjalan seperti biasa, sehingga tingkat produktivitas tetap tinggi.
Hal-hal yang perlu diperhatikan: Keluaran lampu sangat dipengaruhi oleh kebersihan jendela kuarsa dan level permukaan tempat lampu dipasang. Pastikan untuk mematuhi spesifikasi torsi dan prosedur pembersihan ruang bersih agar tingkat keseragaman suhu tetap terjaga pada ±0,1°C. Emitor ini membutuhkan sumber daya listrik yang stabil serta pirometr yang terkalibrasi agar dapat dikontrol dengan baik. Setelah semuanya disesuaikan, sistem dapat beroperasi 24/7 dengan interval perawatan yang teratur, sehingga waktu henti yang tidak terduga bisa diminimalkan.